采用密封彩鋼板 + 雙層真空玻璃隔斷做墻體隔離，隔斷地面做 10~15cm 高防滲踢腳線，墻面與地面、天花板的接縫處打防霉密封膠，形成無縫密閉屏障，防止粉體顆粒通過縫隙滲入儀器區(qū)。

隔離墻開設(shè)帶密封條的觀察窗，窗框與墻體密封處理，觀察窗高度與儀器操作臺平齊，便于實時監(jiān)控實驗進(jìn)程，減少開門頻次；嚴(yán)禁在隔離墻上開設(shè)通風(fēng)口或管線穿孔，確需穿孔的需用密封套管封堵。

粉體區(qū)與儀器區(qū)間設(shè)雙門互鎖緩沖間，兩門禁止同時開啟，緩沖間內(nèi)配備粘塵墊、風(fēng)淋室、手部消毒器，人員進(jìn)入儀器區(qū)前需經(jīng)風(fēng)淋吹落體表粉塵，鞋底粘塵處理，避免攜帶粉塵進(jìn)入。

粉體區(qū)維持 -5~-10Pa 負(fù)壓 ，精密儀器區(qū)維持 +10~+15Pa 正壓 ，形成 “儀器區(qū)→緩沖間→粉體區(qū)" 的定向氣流，確保粉塵始終被限制在粉體區(qū)內(nèi)，不向儀器區(qū)擴(kuò)散；相鄰區(qū)域壓差≥5Pa，配備壓差傳感器實時監(jiān)測，超標(biāo)自動報警。

粉體區(qū)采用側(cè)送下回的氣流組織，回風(fēng)口設(shè)于墻面下部，加裝粉塵過濾裝置，及時抽走實驗產(chǎn)生的揚塵；精密儀器區(qū)采用頂送頂回的潔凈氣流，送風(fēng)經(jīng)初、中、高效三級過濾，確保儀器運行環(huán)境的潔凈度。

兩區(qū)通風(fēng)系統(tǒng)獨立設(shè)置，粉體區(qū)排風(fēng)需經(jīng)布袋除塵器 + 高效過濾器雙重過濾后排放，避免粉塵通過風(fēng)道進(jìn)入儀器區(qū)；儀器區(qū)空調(diào)系統(tǒng)需加裝活性炭過濾段，進(jìn)一步吸附可能滲入的細(xì)微粉體顆粒。

人員通道：粉體區(qū)與儀器區(qū)分設(shè)獨立更衣區(qū)和進(jìn)出通道，粉體區(qū)人員需穿防靜電防塵服，儀器區(qū)人員需穿潔凈服，兩類人員禁止跨區(qū)流動；確需進(jìn)入對方區(qū)域時，需在緩沖間更換對應(yīng)區(qū)域的防護(hù)裝備，重新執(zhí)行凈化流程。

物料通道：設(shè)置粉體樣品專用傳遞窗（雙門互鎖、帶紫外消殺 + 除塵功能），樣品經(jīng)密封包裝后放入傳遞窗，開啟內(nèi)置除塵裝置清除表面粉塵，再轉(zhuǎn)入儀器區(qū)檢測；檢測后的樣品需經(jīng)原通道返回粉體區(qū)，禁止在儀器區(qū)拆封或暫存。

儀器區(qū)禁止存放任何粉體材料，實驗耗材需經(jīng)清潔、密封后帶入；粉體區(qū)的廢料、廢渣需密封在防靜電垃圾袋內(nèi)，通過專用廢棄物通道外運，嚴(yán)禁途經(jīng)儀器區(qū)。

粉體區(qū)的研磨、篩分、混合等易產(chǎn)塵設(shè)備，需遠(yuǎn)離隔離墻布置，與墻間距≥1m，設(shè)備上方加裝局部集塵罩（風(fēng)速控制在 1.0~1.5m/s），實時捕捉揚塵；設(shè)備下方設(shè)防泄漏托盤，防止粉體散落污染地面。

精密儀器（如激光粒度儀、電子顯微鏡、差示掃描量熱儀）需靠隔離墻另一側(cè)布置，與墻間距≥0.5m，儀器底部加裝減震墊，避免粉體區(qū)設(shè)備運行的震動影響儀器精度；儀器區(qū)地面采用防靜電環(huán)氧地坪，墻面做防塵涂層，減少積塵。

兩區(qū)銜接處禁止堆放任何物品，緩沖間內(nèi)保持空曠，僅放置凈化與防護(hù)設(shè)施，確保人員與物料轉(zhuǎn)運的順暢性與安全性。

粉體區(qū)溫濕度控制在 20~28℃、相對濕度 40%~60%，防止粉體吸潮結(jié)塊或揚塵加??；儀器區(qū)溫濕度需按設(shè)備要求精準(zhǔn)調(diào)控（如電子顯微鏡需維持 22±2℃、濕度≤50%），避免溫濕度波動影響檢測數(shù)據(jù)。

建立分區(qū)清潔制度：粉體區(qū)用防靜電吸塵器每日清潔，地面用濕拖布擦拭；儀器區(qū)用無塵布蘸純化水擦拭，定期用 HEPA 濾網(wǎng)吸塵器清潔儀器表面；清潔工具嚴(yán)格分區(qū)專用，禁止混用。